אפלייד מטריאלס ישראל, המתמחה בתחום מערכות איתור תקלות ובקרת האיכות של מוליכים למחצה (PDC), משיקה דור חדש של מערכות: UVision3 ו- SEMVision G4.
מערכות אלה יהוו מרכיב חיוני בתהליך הייצור של שבבים בגודל 45 ננו-מטר שייצאו לשוק ב-2009, ובייצור שבבים בגודל 32 ננו-מטר שייצאו לשוק בשנת 2010.
מערכת ה-Applied UVision 3 מאפשרת איתור פגמים בגודל של 20 ננומטר, זאת באמצעות טכנולוגיה המשלבת שני ערוצי גילוי סימולטנים: ערוץ ה-brightfield (לגילוי החזר אור) וערוץ התלת-מימד (לגלוי פיזור אור).
ל-UVision יכולת לאתר פגמים "קטלניים" שלא ניתן היה לאתר קודם לכן בייצור תעשייתי. ה- Applied SEMVision G4 היא מערכת בקרת פגמים אוטומטית מבוססת מיקרוסקופיה אלקטרונית. מדובר במערכת עם חמישה גלאים שממוקמים בזויות שונות על מנת לקבל תמונה עם יותר פרטים - שמאפשרת זיהוי, צילום, ובקרה אוטומטית של פגמים אקראיים ושיטתיים בשלב הייצור המתקדם.
למערכת כושר הבחנה בפרטים בגודל 2 ננומטר, והיא מסוגלת לזהות ולצלם תמונה של פגם בשבב בתוך שנייה אחת. אפלייד מציינת כי המערכות החדשות כבר מותקנות באתרי הפיתוח והייצור של יצרני השבבים הגדולים בעולם, הנערכים עתה להשקת הדורות הבאים של השבבים בשוק העולמי.
אפלייד מטריאלס משיקה ציוד בדיקה עבור קווי יצור לשבבים בגודל 32 ו-45 ננו-מטר
גיא גרימלנד
9.12.2007 / 14:16