וואלה
וואלה
וואלה
וואלה

וואלה האתר המוביל בישראל - עדכונים מסביב לשעון

טאואר חתמה על הסכם לפיתוח טכנולוגי משותף עם חברת מוליכים למחצה יפאנית

20.6.2002 / 15:31

טאואר ושותפתה היפאנית ישתפו פעולה בפיתוח משותף של טכנולוגיית microFLASH מתקדמת בגיאומטריית 0.18 מיקרון

חברת טאואר סמיקונדקטורס הודיעה היום כי חתמה על הסכם עם חברה יפאנית לייצור מוליכים למחצה לפיתוח משותף של טכנולוגיית microFLASH מתקדמת בגיאומטריית 0.18 מיקרון. הטכנולוגיה שתפותח תתווסף להיצע הטכנולוגי של מפעל Fab 2 של טאואר עבור לקוחות החברה, וכן תוצע על ידי שותפתה של טאואר במסגרת עסקיה.

טכנולוגיית ה-microFLASH של טאואר מציעה פרוסות סיליקון בעלות גודל תא מהקטנים בתעשייה. זכרונות ה-Flash של טאואר, המבוססים על טכנולוגיית NROM של סייפן, מאפשרים אחסון של שני ביט בכל תא, ובכך מכפילים את צפיפות הזיכרון. ייצור המודולים של microFLASH תואם את תהליכי הייצור המקובלים בתעשייה, ומתאים לשילוב עם פונקציות לוגיות ומעגלים אנלוגים.

יואב ניסן-כהן, מנכ"ל משותף בטאואר, ציין כי: "מאמצי הפיתוח המשותפים יאפשרו לטאואר להאיץ את פיתוח טכנולוגיית ה-microFLASH בגיאומטריית 0.18 מיקרון שתוצע ב-Fab 2", דבר שיסייע לחברה ליהנות מהצמיחה הצפויה בשוק, לדבריו.

טרם התפרסמו תגובות

הוסף תגובה חדשה

+
בשליחת תגובה אני מסכים/ה
    0
    walla_ssr_page_has_been_loaded_successfully