אינטל השקיעה בסטארט אפ הישראלי Nanolayers המפתח מוליכים למחצה בגודל ננומילימטרי

האם אינטל מחפשת את הדור הבא של המוליכים למחצה בסטארט אפ ישראלי? השבוע השלימה אינטל קפיטל השקעה בשלב הסיד בחברת הסטארט אפ הישראלית Nanolayers, המפתחת מוליכים למחצה מבוססי חומרים אורגניים בגודל ננומילימטרי. בחברות סירבו למסור את היקף ההון שהשקיעה אינטל בחברה, אך הוא מוערך בסכום של חצי מיליון דולר עד מיליון.



ההשקעה של אינטל השלימה את סבב גיוס הסיד של Nanolayers בו השתתפו גם קרן החומרים הבינלאומית שבסיסה בישראל מילניום ומשקיעים פרטיים. החברה יוצאת עתה לסבב גיוס ההון הראשון שהיעד שלו הוא כ-10 מיליון דולר.



Nanolayers הוקמה בשנת 2001 על ידי ד"ר שלמה איצחייק, חוקר ומרצה במחלקה לכימיה לא אורגנית באוניברסיטה העברית, ובשיתוף עם חברת יישום של האוניברסיטה העברית. איצחייק פיתח במסגרת מחקרו טכנולוגיה בשם Molecular Layer Epitaxy - MLE, המאפשרת למהנדסים לעבוד עם חומרים אורגניים אחידים ויציבים שגודלם אחד חלקי 100 מהגודל של החלקיקים בהם משתמשת כיום התעשייה. הטכנולוגיה מאפשרת לייצר מוליכים למחצה מבוססי פחמן במקום סיליקון, בגודל של 10-70 ננו מילימטר (לעומת טכנולוגיות הייצור של אינטל שהגיעו ל-80 ננו מילימטר).



השימוש בפחמן ובחומרים אורגניים יאפשר ייצור סדרתי שלא באמצעות חדרים סטריליים ובטמפרטורות נמוכות יותר ובכך יאפשרו ייצור סדרתי זול ופשוט יותר של מוליכים למחצה. לדברי מנהלי Nanolayers, הטכנולוגיה שהחברה מפתחת תוכל להשתלב גם בייצור של מסכים שטוחים כמו LCD וOLED. בשלב זה, החברה פועלת מדירה קטנה בשכונת רחביה בירושלים ומעסיקה רק שלושה עובדים - המייסדים המנכ"ל בנציון שפיץ והמדען הראשי ד"ר איצחייק ועובד אחד, מיכאל ויינשטיין. החברה מתכוונת לגייס בעקבות ההשקעה מספר קטן של עובדים נוספים.



אינטל הצהירה בעבר כי היא מחפשת טכנולוגיות בתחום הננו-טכנולוגיה וכי היא מפתחת במעבדות שלה בארה"ב טכנולוגיות לייצור ננו-מילימטרי ומערכות מיקרוסקופים היכולות להתמודד עם חלקיקים זעירים.